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引線框架作為一種關鍵的半導體封裝結構元件，其核心功能在于搭建內部芯片與外部電路之間的橋梁，引線框架憑借薄型的金屬構造，實現了對集成電路內部芯片觸點與外部導線的有效聯結。
半導體引線框架憑借獨特的結構設計與材料選用，既可以充當集成電路芯片的物理承載者，又可以作為電訊號傳輸的媒介。而引線框架鍍層在提升焊接性能、導電性、耐腐蝕性、機械性能和外觀等方面至關重要，直接影響電子設備的性能和可靠性。
常見的鍍層材料包括金（Au）、銀（Ag）、鎳（Ni）和錫（Sn），它們各有優勢，適用于不同的應用場景。
佳譜儀器T650Splus鍍層測厚儀搭配高性能SDD探測器,對于引線框架上僅幾納米的超薄鍍層，能保證測試的準確性和穩定性，也能精準輸出測量數據，誤差控制在<±2μm，不放過引線框架任何一處需要測量的細微部位。
可以同時測量多層鍍層加底材層，對于引線框架常用的如化學鎳鈀金（ENEPIG）等多層鍍層結構，能準確分析各層的厚度，為鍍層質量把控提供全面數據。
能夠同時分析多種元素，可精準確定引線框架鍍層中的元素組成，快速判斷是否存在雜質元素或成分異常，有效保障鍍層質量符合標準。
擁有定性、半定量和定量分析功能，不管是對引線框架鍍層進行初步質量篩查，還是開展深入精確的成分與厚度分析，都能完美勝任，滿足不同場景下的檢測分析需求。
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